公司刘世元教授团队成员赴韩国参加第十五届ISMTII测量技术与智能仪器国际会议

9月17日至21日，第十五届测量技术与智能仪器国际研讨会（ISMTII 2023）在韩国首尔举行。公司机械电子信息工程系刘世元教授团队成员在会上作了报告并引起了广泛关注，其中谷洪刚副教授获得了“最佳报告奖（Best Presentation Award）”。

（从左至右分别为刘佳敏、赵杭、彭攀、朱金龙、陈超）

博士后刘佳敏作了题为“Exposure-induced optical responses in UV photoresist using spectroscopic ellipsometry（紫外光刻胶曝光动力学响应的光谱椭偏测量）”的报告，介绍了紫外光刻胶曝光动力学参数的原位椭偏测量方法，并分析了椭偏测量色散误差对光刻胶Dill参数测量精度的影响机制。

博士后陈超作了题为“Tomographic imaging Mueller-matrix ellipsometry: Principle, instrumentation and emerging applications（层析成像穆勒矩阵椭偏仪：原理、运用、新兴应用）”的报告，介绍了层析成像穆勒矩阵椭偏仪的原理、运用，并总结了相关的新兴应用。

赵杭作了题为“Buried patterns and defects see-through imaging by high-voltage SEM（高压扫描电子显微镜对掩埋图案和缺陷的透视成像）”的报告，针对半导体制造中存在的埋藏图案与缺陷，讨论了HV-SEM相对传统表面检测手段的优势，验证了HV-SEM对掩埋特征的可见性并指出了HV-SEM所存在的局限。

彭攀作了题为“Maskless 3D fabrication based on laser-induced chemical etching（基于光化学刻蚀的无掩膜三维制造）”的报告，介绍了一种基于光化学刻蚀原理的半导体微纳米结构制造方法与系统，利用自主搭建的光学系统进行光场调制，实现了三维微纳米结构的无掩膜快速加工。

在会议晚宴，朱金龙教授向在座的学者介绍了将于武汉举办的ISMTII 2025并现场分发了Call For Papers论文征集宣传单，获得国内外学者的热情关注与期待。

过去34年来，ISMTII国际测量技术与智能仪器国际研讨会已成为国际计量专家的知名会议。ISMTII 2023关注科学界和工业界的国际参与者，聚焦当前趋势和发展，讨论如何用计量手段应对全球挑战。研讨会为专家和学者之间交流该领域的最新技术提供了宝贵机会，同时组织技术参观以展示最新测量技术与成果。